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精密刻蝕鍍膜系統(tǒng)PECS II 685
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- 更新日期：2023-03-20
- 產(chǎn)品介紹：精密刻蝕鍍膜系統(tǒng)PECS II 685，一款桌面型寬束氬離子拋光及鍍膜設(shè)備。對(duì)于同一個(gè)樣品，可在同一真空環(huán)境下完成拋光及鍍膜。
- 廠商性質(zhì)：代理商
產(chǎn)品介紹
| 品牌 | 其他品牌 | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,石油,地礦 |
精密刻蝕鍍膜系統(tǒng)PECS II 685
品牌： GATAN
名稱型號(hào)：精密刻蝕鍍膜系統(tǒng)PECS II 685
制造商： 美國(guó)GATAN公司
經(jīng)銷商：歐波同有限公司
產(chǎn)品綜合介紹：
產(chǎn)品功能介紹
Gatan公司的精密刻蝕鍍膜儀 (PECS™) II 是一款桌面型寬束氬離子拋光及鍍膜設(shè)備。對(duì)于同一個(gè)樣品，可在同一真空環(huán)境下完成拋光及鍍膜。
精密刻蝕鍍膜系統(tǒng)PECS II 685產(chǎn)品主要技術(shù)特點(diǎn)：
精密刻蝕鍍膜儀 (PECS™) II，采用兩個(gè)寬束氬離子束對(duì)樣品表面進(jìn)行拋光，去除損失層，從而得到高質(zhì)量的樣品，用于在SEM、光鏡或者掃描電子探針上進(jìn)行成像、EDS，EBSD，CL，EBIC或者其他分析，另外將這兩支離子槍對(duì)準(zhǔn)靶材濺射，可用來(lái)對(duì)樣品做導(dǎo)電金屬膜沉積處理，以防止樣品在電鏡中發(fā)生荷電效應(yīng)。
這款儀器被設(shè)計(jì)為不破壞真空，不將樣品新鮮表面暴露在大氣中，即可對(duì)拋光樣品進(jìn)行處理。樣品的裝卸是通過(guò)一個(gè)專門設(shè)計(jì)的裝樣工具在真空交換艙中完成。
兩支具有更大電壓范圍的小型潘寧離子槍，可提供快速柔和的拋光效果。低至100eV的離子束提供更柔和的拋削效果，用于樣品的終ji拋光。低能聚焦電極使得離子束的直徑在幾乎整個(gè)加速電壓范圍內(nèi)都保持一致。每個(gè)離子槍都能準(zhǔn)確獨(dú)立地進(jìn)行對(duì)中。在儀器運(yùn)行過(guò)程中，離子槍的角度可隨時(shí)進(jìn)行調(diào)整。離子槍的氣流可在觸摸屏上通過(guò)手動(dòng)方式或者自動(dòng)方式進(jìn)行調(diào)整， 用于優(yōu)化離子槍的工作電流。
PECS II樣品臺(tái)采用液氮制冷方式?？梢杂行У谋Ｗo(hù)樣品，避免離子束熱損傷，消除可能的假象。
集成的10英寸彩色觸摸屏計(jì)算機(jī)可對(duì)PECS II系統(tǒng)的所有操作參數(shù)進(jìn)行*控制。此界面不僅可以設(shè)定所有參數(shù)并能夠監(jiān)控拋光過(guò)程。所有的操作參數(shù)還可以存為配方，調(diào)用配方可獲得高精度重復(fù)實(shí)驗(yàn)。
渦輪分子泵搭配兩級(jí)隔膜泵保證了超潔凈環(huán)境。通過(guò)Gatan的樣品裝卸工具能實(shí)現(xiàn)快速樣品交換（< 1min），這樣就能保證換樣過(guò)程中加工艙室始終處在高真空狀態(tài)。
